江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000

江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000

江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000

照度計

（1）拓普康科技大廈

IM-1000

顯色光度計（光譜光度計）

支持2到1,000,000 lx的寬動態(tài)范圍，可用于從建筑相關(guān)輻照度檢查和安裝到照明設(shè)備制造商開發(fā)和生產(chǎn)線檢測的廣泛應(yīng)用它是一種便攜式彩色渲染光度計，可以在流行的價格范圍內(nèi)使用。

（2）拓普康科技大廈

IM-2D / IM-600 / IM-600M·UVR-300 / UVR-T1·PU-21 / FI-51L / FI-51 S

照度計·紫外線強(qiáng)度計·紫外線燈

顯示范圍：0.005~9999,900（lx ）

E試驗機(jī)

1;硬度測試儀

（1）曝光裝置

尼康工程

Mini-stepper NES1-h04

投影曝光系統(tǒng)實現(xiàn)世界上小的占地面積縮小的投影曝光系統(tǒng)針對MEMS制造

進(jìn)行了優(yōu)化配備了針對MEMS優(yōu)化的新開發(fā)的投影鏡頭

□世界上小的占地面積

□可安裝背面對準(zhǔn)機(jī)構(gòu)（選項）

□批量生產(chǎn)的吞吐量

（2）尼康工程

NES1-h02

還原投影曝光系統(tǒng)緊湊，經(jīng)濟(jì)的曝光系統(tǒng)，具有縮小投影功能。

□顯著提高吞吐量

□配備新開發(fā)的投影鏡頭

□采用離軸對中方式

（3）

縮小投影曝光系統(tǒng)（迷你步進(jìn)）

NES2-h04/h06

1.深度關(guān)注邊際

我們采用適用于MEMS的NA投影鏡頭，實現(xiàn)深焦距。對應(yīng)厚膜抗蝕劑和高臺階。此外，

步進(jìn)方法的優(yōu)點和晶片抽吸機(jī)構(gòu)的優(yōu)化提高了具有大翹曲的晶片的產(chǎn)量。

2.高精度背面對齊（OP）

根據(jù)晶片背面的對準(zhǔn)標(biāo)記，可以以0.8μm（1×1 +3σ）對準(zhǔn)精度的非常高的精度進(jìn)行曝光。

3.與NSR混合搭配

NES 2-h06的曝光范圍為22 mm x 22 mm，相當(dāng)于尼康NSR批處理系統(tǒng)。此外，可以使用NSR中使用的FIA標(biāo)記（XY同時測量兼容版本）進(jìn)行對齊。我們使混合和匹配變得容易。

NES1-h04

1.針對MEMS優(yōu)化的新開發(fā)的投影鏡頭

它具有2.0μmL/ S的分辨率和15 mm x 15 mm的曝光面積，可實現(xiàn)MEMS制造所需的高性能。同時，NA（數(shù)值孔徑）優(yōu)化確保了非常深的聚焦余量。我們已經(jīng)能夠處理厚膜抗蝕劑和高水平差異。

2.實現(xiàn)世界上小的足跡

通過將控制系統(tǒng)整合到車身中，實現(xiàn)了1.3平方米（無選項）的驚人的小占地面積。即使使用晶圓裝載機(jī)，空間也為1.9平方米，有助于提高潔凈室空間利用率并降低運(yùn)行成本。

3.可以安裝背面對齊機(jī)構(gòu)（可選）

可以根據(jù)晶片背面的對準(zhǔn)標(biāo)記以0.8μm（IXI +3σ）的對準(zhǔn)精度進(jìn)行曝光。

NES1-h02

顯著提高吞吐量

基本性能得到了極大的提高，例如通過回顧舞臺控制方法進(jìn)一步加快，采用新設(shè)計的非常明亮的照明系統(tǒng)增加投影平面照明，并采用閃光光源，從而顯著提高吞吐量。這是。

配備新開發(fā)的投影鏡頭

安裝了一個新的投影鏡頭，其曝光面積比前一個更大，NA為0.16和φ11。通過采用離軸對準(zhǔn)方法，確保了投影鏡頭的設(shè)計自由度，并且還制造了根據(jù)客戶要求定制的投影鏡頭。

采用離軸對準(zhǔn)方式

配備對準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)和高剛性的機(jī)身，確保相同或更高的對準(zhǔn)精度。此外，與TTR方法相比，減少了掩模版設(shè)計約束。

操作簡便

我們采用Windows®XPfor OS，實現(xiàn)良好的可操作性。使用與PrA系列曝光系統(tǒng)相同的菜單配置，已經(jīng)使用該系列的客戶可以在沒有不適的情況下操作。

節(jié)省空間，尺寸緊湊

與流行的PrA系列曝光系統(tǒng)類似，它具有非常緊湊的設(shè)計。

安裝，縮短啟動時間