日立高分辨率掃描電子顯微鏡S-5500

高分辨率的顯微分析對設備有特殊的要求，以便可以得到新的信息及展現(xiàn)納米世界的秘密。 
新的S-5500完全可以滿足這些需要。

技術參數(shù)：

技術指標： 
二次電子成像分辨率： 0.4nm (30kV) ；1.6nm (1kV) 
加速電壓： 0.5~30kV 
放大倍率： 60X ~ 10000X (低倍模式) ； 
800~2000000X(高倍模式) 
電子光學 
電子槍： 冷場發(fā)射電子源 
透鏡系統(tǒng)： 3級電磁透鏡系統(tǒng) 
物鏡光欄： 可變型 (4孔可選，在真空系統(tǒng)外進行微 
調(diào)，100-50-50-30um) 
消像散線圈： 八極電磁線圈系統(tǒng) 
掃描線圈： 2級電磁偏轉(zhuǎn)線圈(高倍模式) ；1級電磁 
線圈(低倍模式) 
電子束遮擋： 靜電型(與掃描線圈同步) 
樣品臺： 側(cè)插式測角臺 
樣品臺移動： X：±3.5mm Y: ±2.0mm; Z: ±0.3mm 
T: ±40° 
樣品尺寸： 大5.0mmx9.5mmx3.5mmH (Bulk) 
大2.0mmx6.0mmx5.0mmH (Cross-section) 
電子圖像移動： ±5um (樣品高度=0mm) 
檢測器： 二次電子檢測器 
上部背散射電子檢測器(可選) 
YAG型背散射電子檢測器(可選) 
BF/DF 雙STEM檢測器(可選) 
STEM檢測器(可選) 
X射線能譜儀 (可選) 
顯示系統(tǒng)： 操作系統(tǒng)：Windows XP 
顯示器：19?LCD 
圖像顯示模式：1280x960 (全屏模式) 

640x480 及320x320 (選區(qū)顯示) 

640x480x2 (雙圖像顯示)

主要特點：

 S-5500的設計可以保證0.4nm的高分辨率，從而獲得新的信息并展現(xiàn)納米世界的秘密。 

1. 的物鏡設計可以使其達到世界高分辨率：0.4nm(30kV)。 

2. 保證分辨率為0.4nm (30kV) 1.6nm (1kV) 

3. Hitachi的技術ExB可以讓操作者優(yōu)化圖像中SE和BSE信號的比例 

4. 新開發(fā)的BF/DF雙STEM檢測器可以同時顯示BF像及DF像。在DF STEM模式中還可以改變檢測角度。(可選) 

5. 電子光學系統(tǒng)的改進可以不用改變樣品位置而同時進行EDS分析及形貌觀察。 

6. 可以使用與FIB兼容的樣品桿。