江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000
照度計
(1)拓普康科技大廈
IM-1000
顯色光度計(光譜光度計)
支持2到1,000,000 lx的寬動態(tài)范圍,可用于從建筑相關輻照度檢查和安裝到照明設備制造商開發(fā)和生產(chǎn)線檢測的廣泛應用它是一種便攜式彩色渲染光度計,可以在流行的價格范圍內(nèi)使用。
(2)拓普康科技大廈
IM-2D / IM-600 / IM-600M·UVR-300 / UVR-T1·PU-21 / FI-51L / FI-51 S
照度計·紫外線強度計·紫外線燈
顯示范圍:0.005~9999,900(lx )
E試驗機
1;硬度測試儀
(1)曝光裝置
尼康工程
Mini-stepper NES1-h04
投影曝光系統(tǒng)實現(xiàn)世界上小的占地面積縮小的投影曝光系統(tǒng)針對MEMS制造
進行了優(yōu)化配備了針對MEMS優(yōu)化的新開發(fā)的投影鏡頭
□世界上小的占地面積
□可安裝背面對準機構(gòu)(選項)
□批量生產(chǎn)的吞吐量
(2)尼康工程
NES1-h02
還原投影曝光系統(tǒng)緊湊,經(jīng)濟的曝光系統(tǒng),具有縮小投影功能。
□顯著提高吞吐量
□配備新開發(fā)的投影鏡頭
□采用離軸對中方式
(3)
縮小投影曝光系統(tǒng)(迷你步進)
NES2-h04/h06
1.深度關注邊際
我們采用適用于MEMS的NA投影鏡頭,實現(xiàn)深焦距。對應厚膜抗蝕劑和高臺階。此外,
步進方法的優(yōu)點和晶片抽吸機構(gòu)的優(yōu)化提高了具有大翹曲的晶片的產(chǎn)量。
2.高精度背面對齊(OP)
根據(jù)晶片背面的對準標記,可以以0.8μm(1×1 +3σ)對準精度的非常高的精度進行曝光。
3.與NSR混合搭配
NES 2-h06的曝光范圍為22 mm x 22 mm,相當于尼康NSR批處理系統(tǒng)。此外,可以使用NSR中使用的FIA標記(XY同時測量兼容版本)進行對齊。我們使混合和匹配變得容易。
NES1-h04
1.針對MEMS優(yōu)化的新開發(fā)的投影鏡頭
它具有2.0μmL/ S的分辨率和15 mm x 15 mm的曝光面積,可實現(xiàn)MEMS制造所需的高性能。同時,NA(數(shù)值孔徑)優(yōu)化確保了非常深的聚焦余量。我們已經(jīng)能夠處理厚膜抗蝕劑和高水平差異。
2.實現(xiàn)世界上小的足跡
通過將控制系統(tǒng)整合到車身中,實現(xiàn)了1.3平方米(無選項)的驚人的小占地面積。即使使用晶圓裝載機,空間也為1.9平方米,有助于提高潔凈室空間利用率并降低運行成本。
3.可以安裝背面對齊機構(gòu)(可選)
可以根據(jù)晶片背面的對準標記以0.8μm(IXI +3σ)的對準精度進行曝光。
顯著提高吞吐量
基本性能得到了極大的提高,例如通過回顧舞臺控制方法進一步加快,采用新設計的非常明亮的照明系統(tǒng)增加投影平面照明,并采用閃光光源,從而顯著提高吞吐量。這是。
配備新開發(fā)的投影鏡頭
安裝了一個新的投影鏡頭,其曝光面積比前一個更大,NA為0.16和φ11。通過采用離軸對準方法,確保了投影鏡頭的設計自由度,并且還制造了根據(jù)客戶要求定制的投影鏡頭。
采用離軸對準方式
配備對準光學系統(tǒng)和高剛性的機身,確保相同或更高的對準精度。此外,與TTR方法相比,減少了掩模版設計約束。
操作簡便
我們采用Windows®XPfor OS,實現(xiàn)良好的可操作性。使用與PrA系列曝光系統(tǒng)相同的菜單配置,已經(jīng)使用該系列的客戶可以在沒有不適的情況下操作。
節(jié)省空間,尺寸緊湊
與流行的PrA系列曝光系統(tǒng)類似,它具有非常緊湊的設計。
安裝,縮短啟動時間
其他推薦產(chǎn)品
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江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000
江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000
江西代理日本RYOKOSHA照度計IM-1000
照度計
(1)拓普康科技大廈
IM-1000
顯色光度計(光譜光度計)
支持2到1,000,000 lx的寬動態(tài)范圍,可用于從建筑相關輻照度檢查和安裝到照明設備制造商開發(fā)和生產(chǎn)線檢測的廣泛應用它是一種便攜式彩色渲染光度計,可以在流行的價格范圍內(nèi)使用。
(2)拓普康科技大廈
IM-2D / IM-600 / IM-600M·UVR-300 / UVR-T1·PU-21 / FI-51L / FI-51 S
照度計·紫外線強度計·紫外線燈
顯示范圍:0.005~9999,900(lx )
E試驗機
1;硬度測試儀
(1)曝光裝置
尼康工程
Mini-stepper NES1-h04
投影曝光系統(tǒng)實現(xiàn)世界上小的占地面積縮小的投影曝光系統(tǒng)針對MEMS制造
進行了優(yōu)化配備了針對MEMS優(yōu)化的新開發(fā)的投影鏡頭
□世界上小的占地面積
□可安裝背面對準機構(gòu)(選項)
□批量生產(chǎn)的吞吐量
(2)尼康工程
NES1-h02
還原投影曝光系統(tǒng)緊湊,經(jīng)濟的曝光系統(tǒng),具有縮小投影功能。
□顯著提高吞吐量
□配備新開發(fā)的投影鏡頭
□采用離軸對中方式
(3)
縮小投影曝光系統(tǒng)(迷你步進)
NES2-h04/h06
1.深度關注邊際
我們采用適用于MEMS的NA投影鏡頭,實現(xiàn)深焦距。對應厚膜抗蝕劑和高臺階。此外,
步進方法的優(yōu)點和晶片抽吸機構(gòu)的優(yōu)化提高了具有大翹曲的晶片的產(chǎn)量。
2.高精度背面對齊(OP)
根據(jù)晶片背面的對準標記,可以以0.8μm(1×1 +3σ)對準精度的非常高的精度進行曝光。
3.與NSR混合搭配
NES 2-h06的曝光范圍為22 mm x 22 mm,相當于尼康NSR批處理系統(tǒng)。此外,可以使用NSR中使用的FIA標記(XY同時測量兼容版本)進行對齊。我們使混合和匹配變得容易。
NES1-h04
1.針對MEMS優(yōu)化的新開發(fā)的投影鏡頭
它具有2.0μmL/ S的分辨率和15 mm x 15 mm的曝光面積,可實現(xiàn)MEMS制造所需的高性能。同時,NA(數(shù)值孔徑)優(yōu)化確保了非常深的聚焦余量。我們已經(jīng)能夠處理厚膜抗蝕劑和高水平差異。
2.實現(xiàn)世界上小的足跡
通過將控制系統(tǒng)整合到車身中,實現(xiàn)了1.3平方米(無選項)的驚人的小占地面積。即使使用晶圓裝載機,空間也為1.9平方米,有助于提高潔凈室空間利用率并降低運行成本。
3.可以安裝背面對齊機構(gòu)(可選)
可以根據(jù)晶片背面的對準標記以0.8μm(IXI +3σ)的對準精度進行曝光。
NES1-h02
顯著提高吞吐量
基本性能得到了極大的提高,例如通過回顧舞臺控制方法進一步加快,采用新設計的非常明亮的照明系統(tǒng)增加投影平面照明,并采用閃光光源,從而顯著提高吞吐量。這是。
配備新開發(fā)的投影鏡頭
安裝了一個新的投影鏡頭,其曝光面積比前一個更大,NA為0.16和φ11。通過采用離軸對準方法,確保了投影鏡頭的設計自由度,并且還制造了根據(jù)客戶要求定制的投影鏡頭。
采用離軸對準方式
配備對準光學系統(tǒng)和高剛性的機身,確保相同或更高的對準精度。此外,與TTR方法相比,減少了掩模版設計約束。
操作簡便
我們采用Windows®XPfor OS,實現(xiàn)良好的可操作性。使用與PrA系列曝光系統(tǒng)相同的菜單配置,已經(jīng)使用該系列的客戶可以在沒有不適的情況下操作。
節(jié)省空間,尺寸緊湊
與流行的PrA系列曝光系統(tǒng)類似,它具有非常緊湊的設計。
安裝,縮短啟動時間