德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納3D打印機(jī)，雙光子飛秒激光直寫(xiě)儀

體上來(lái)說(shuō)，我們的機(jī)器的優(yōu)勢(shì)是他的精度，達(dá)到150納米，跟傳統(tǒng)的3D打印機(jī)相比足足高了兩個(gè)數(shù)量級(jí)。客戶(hù)大多數(shù)是世界*大學(xué)和研究所。使用我們的系統(tǒng)他們可以把微納加工與3D打印*的結(jié)合起來(lái)，制備出非常fancy的研究工作以發(fā)在高端學(xué)術(shù)期刊上。

系統(tǒng)*小能夠做到的橫向特征尺度為150納米。

應(yīng)用包括光子學(xué)，等離子體激元，微光學(xué)，微結(jié)構(gòu)力學(xué)，微流道以及生物醫(yī)學(xué)等等：

在下面我想在不同的應(yīng)用領(lǐng)域與大家分享客戶(hù)的例子。 例如，我們的客戶(hù)可以通過(guò)將功能性顆粒混入聚合物材料以改變?nèi)S構(gòu)型的材料性能.

微光學(xué)：該系統(tǒng)被用來(lái)打印聚合物材質(zhì)的微透鏡或微光學(xué)元件。然后用此做為模具進(jìn)行規(guī)模化生產(chǎn)。*一張照片顯示的是轉(zhuǎn)換為鎳以后的負(fù)模。

光子帶隙材料： 瑞士弗萊堡大學(xué)的Frank Scheffold小組*近的一個(gè)工作是通過(guò)3D打印的聚合物作為模板，然后通過(guò)原子層沉積（ALD）工藝在空隙中填入高折射率的二氧化鈦，*通過(guò)煅燒過(guò)程除去聚合物，得到了純的二氧化鈦光子晶體。

無(wú)堵塞微流道： 一種簡(jiǎn)單的加工微流道的方法是整片襯底上涂上SU-8，然后使用Nanoscribe的光子*Photonic Professional GT打印出較精細(xì)部分的結(jié)構(gòu)，然后再次使用標(biāo)準(zhǔn)的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)對(duì)其它部分進(jìn)行曝光。 下圖是此法加工的無(wú)堵塞3D微孔。 在200μm高的SU-8中打印出的3D微濾器（設(shè)計(jì)版權(quán)：IMSAS）：

通過(guò)將納米顆?；旌系焦饪棠z中直接打印的導(dǎo)電元件：

我們來(lái)自美國(guó)內(nèi)布拉斯加大學(xué)林肯分校的客戶(hù)陸永峰教授課題組將光刻膠與碳納米管（MWNT-硫醇-丙烯酸酯（MTA）混合，直接打印制造導(dǎo)電元件。此法打出的器件達(dá)到了高達(dá)47S/m的電導(dǎo)率。

輕硬力學(xué)材料：

德國(guó)卡爾斯魯厄理工的Oliver Kraft課題組3D打印制造了聚合物晶格，然后通過(guò)隔氧加熱將其熱解并收縮了五倍大小，得到的單柱短于1μm，直徑小至200 nm的力學(xué)晶格。 此外，材料轉(zhuǎn)化為玻璃碳，強(qiáng)度高達(dá)1.2Gpa而其密度僅有區(qū)區(qū)0.6克每毫升。 僅僅鉆石比其具有更高的強(qiáng)度與密度比。 也許這種方法也可以用于其他應(yīng)用領(lǐng)域（例如光子學(xué)）來(lái)減少特征尺寸。

到目前為止，全球安裝了100多臺(tái)系統(tǒng)，比如說(shuō)牛津大學(xué)，倫敦帝國(guó)理工大學(xué)，蘇黎世蘇黎世大學(xué)，加州理工學(xué)和哈佛大學(xué)等大學(xué)（前四所高校已經(jīng)訂購(gòu)了第二系統(tǒng)）。

3D印刷金色城堡的尺寸：長(zhǎng)10毫米，高2.5毫米，6毫米深。 
3D模型：由“Liegenschaftsamt Karlsruhe”

國(guó)內(nèi)使用客戶(hù):

  復(fù)旦大學(xué), 南京大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 首都師范大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳大學(xué)等.

國(guó)外使用客戶(hù): 哈佛大學(xué), 麻省理工大學(xué), 東京大學(xué),南洋理工大學(xué), 卡內(nèi)基梅隆大學(xué)

  帝國(guó)理工大學(xué), 蘇黎世聯(lián)邦理工大學(xué)等50余家用戶(hù)