DWL66⁺

多功能無掩膜激光直寫機

The Ultimate Lithography Tool

多種直寫模塊及灰度光刻 實現(xiàn)各種精度需求

DWL66+ 激光光刻系統(tǒng)是*經(jīng)濟效益、具有高分辨率的圖形發(fā)生器。適用于小批量掩膜版制作和直寫需求。

DWL66+擁有多種選配模塊,例如:正面和背面對準系統(tǒng)；405nm和375nm波長的激光發(fā)生器；進階選配：*位置精度校準和自動上下板加載系統(tǒng)。

DWL66+的高度靈活和可定制的解決方案，專門為您的應(yīng)用量身定做，已成為生命科學(xué)、*封裝、MEMS、微光學(xué)、半導(dǎo)體和所有其他需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中必不可缺少的光刻研究工具。

關(guān)于我們 - Stella International

Stella International攜手光刻技術(shù)領(lǐng)航者-海德堡儀器公司，共同為客戶帶來*的綜合應(yīng)用效能，同時建立緊密的合作伙伴關(guān)系。

為了服務(wù)客戶更廣泛多元的應(yīng)用領(lǐng)域，Stella International于 2016年在蘇州成立海德堡儀器演示中心，以海德堡原廠伙伴技術(shù)支援，提供客戶技術(shù)交流平臺以及各式前段打樣的基礎(chǔ)研究，

這些年來已服務(wù)許多的國內(nèi)大學(xué)，研究所與企業(yè)前期研發(fā)單位。

介紹

德國海德堡 高精密無掩膜激光直寫設(shè)備
HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM

德國海德堡設(shè)備(Heidelberg Instruments)，創(chuàng)始于1984年，在激光直寫設(shè)備的發(fā)展和設(shè)計上，一直是*的。多年以來，系統(tǒng)設(shè)備持續(xù)地改良、在各種應(yīng)用上客制化。

應(yīng)用范圍包括：微電腦和納米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相關(guān)領(lǐng)域。

銷售橫跨歐洲、美國、亞洲等過50幾個*、700個以上銷售據(jù)點，用于研發(fā)、快速原型制作和工業(yè)生產(chǎn)系統(tǒng)，是企業(yè)研究和發(fā)展的*伙伴。